| VIEL | PRODUKT | DURCHMESSER | KRISTALL | TYP | DOPANT | ORIENTIERUNG | DICKE | WIDERSTAND | |
| G8P131 | SOI | 200 | CZ | P | B | 100 | 725±15 | 14~19 | Gerät: 55 ± 7,5 nm, 8 ~ 12 Ohm.cm / Box: 145 ± 10 nm, Kerbe<110> |
| C19404-3-2 | SOI | 200 | CZ | N / A | N / A | 100 | 725±15 | >750 | Gerät: 210–230 nm, 8–12 Ohm.cm / Box: 2950–3050 nm |
| G8P238S | SOI | 200 | CZ | P | B | 100 | 725±15 | 14~19 | Gerät: 200–240 nm, 8–12 Ohm.cm / Box: 1950–2050 nm |
| G8P217 | SOI | 200 | CZ | N / A | N / A | 100 | 725±15 | >750 | Gerät: 210~230nm, P<100>, 8~12 Ohm.cm / Feld: 1950~2050nm |
| G8P500 | SOI | 200 | CZ | P | B | 100 | 725±15 | 8~12 | Gerät: 500±50 nm / Box: 2950~3050 nm, Kerbenausrichtung<110> |
| G8P600 | SOI | 200 | CZ | P | B | 100 | 725±15 | 8~12 | Gerät: 600±60 nm / Box: 2950~3050 nm, Kerbenausrichtung<110> |
| G8P340 | SOI | 200 | CZ | P | B | 100 | 725±15 | 8~12 | Gerät: 340±25 nm / Box: 2900~3100 nm, Kerbenausrichtung<110> |
| G8P288 | SOI | 200 | CZ | P | B | 100 | 725±15 | >1000 | Gerät: 145 ± 12,5 nm, 8 ~ 12 Ohm.cm / Box: 400 ± 25 nm, Kerbe<110> |
| G8M107 | SOI | 200 | CZ | N | Ph | 100 | 725±15 | 0.3~1.2 | Gerät: 1500±80nm, P/B<100>, 14~22 Ohm-cm / Box: 950~1050 nm, Kerbe<100> |
| 230300058 | SOI | 150 | CZ | P | B | 100 | 450±5 | 1~10 | Gerät: 15 μm ±0,5 μm P 0,01~0,02 / Box: 5 μm ±5 %, DSP |
| 1511032 | SOI | 100 | CZ | N | 100 | 475±25 | N / A | Gerät: 20μm±0,5 N 0,001~0,02 / Karton: 15μm±3 % | |
| G8N70 | SOI | 200 | CZ | N | Ph | 100 | 725±10 | 1~10 | Gerät: 70 μm ± 5 % / Box: 1000 nm ± 5 % |
| G8K00318 | SOI | 200 | CZ | P | B | 100 | 625±10 | >1000 | Gerät: 1,5±0,5μm,<0.02 ohm.cm / Box : 2μm±5% |
| A0210 | SOI | 200 | CZ | P | B | 100 | 725±15 | 8.5~11.5 | Gerät: 1250±100 nm / Box: 400±40 nm |
| 112301 | SOI | 100 | CZ | N | Sb | 100 | 300 | 0.005~0.025 | Gerät: 30μm / Box: 0,5μm |
| G6P163S | SOI | 150 | CZ | P | B | 100 | 675±15 | 10~20 | Gerät: 200–240 nm, 10–20 Ohm.cm / Box: 2850–3150 nm |
Update zum Lagerbestand an 4,6,8-Zoll-Siliziumwafern_20240311 SOI
Mar 12, 2024
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