Produktbeschreibung
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Polierte Silizium-Wafer-Parameter 1 |
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Durchmesser |
1 Zoll-12 Zoll |
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Dicke |
280um, 300um, 380um, 400um, 500um, 525um, 675um und individuelle Dicke |
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Typ |
P-Typ und N-Typ |
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Dotiert |
Undotiertes, dotiertes Bor, dotiertes Phosphor oder Arsen |
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Orientierung |
<100>, <111>, <110> |
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Spezifischer Widerstand |
1-10ohm.cm, 0.001-0.005ohm.cm, >1000ohm.cm and >20000 Ohm.cm |
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Polieren |
DSP |
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Methode |
CZ und FZ |
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Oxidschicht |
100, 200, 300 nm +/-10 % |
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Parameter für polierte Siliziumwafer 2 |
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Durchmesser |
50,8 mm |
76,2 mm |
100 mm |
125 mm |
150 mm |
200 mm |
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Durchmessertoleranz |
±0,4 mm |
±0,5 mm |
±0,5 mm |
±0,3 mm |
±0,3 mm |
±0,2 mm |
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Dicke |
280 um |
381 um |
525 um |
625 um |
675 um |
725um |
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Dicke Toleranz |
±20 um |
±20 um |
±20 um |
±15 um |
±15 um |
±15 um |
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TTV |
Kleiner oder gleich 8um |
Kleiner oder gleich 10um |
Kleiner oder gleich 10um |
Kleiner oder gleich 10um |
Kleiner oder gleich 10um |
Kleiner oder gleich 10um |
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Biegen |
Kleiner oder gleich 25um |
Kleiner oder gleich 30um |
Kleiner oder gleich 40um |
Kleiner oder gleich 40um |
Kleiner oder gleich 50um |
Kleiner oder gleich 50um |
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TIR |
Kleiner oder gleich 5um |
Kleiner oder gleich 6um |
Kleiner oder gleich 6um |
Kleiner oder gleich 5um |
Kleiner oder gleich 5um |
anpassen |
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Länge der Primärfläche |
16,0±2,0mm |
22,5 ± 2,5 mm |
32,5 ± 2,5 mm |
42,5 ± 2,5 mm |
57,5 ± 2,5 mm |
anpassen |
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Länge der sekundären Wohnung |
8,0±2,0mm |
11,5 ± 1,5 mm |
18,0±2,0mm |
27,5 ± 2,5 mm |
37,5 ± 2,5 mm |
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Hinweis: Wenn spezielle Parameteranforderungen bestehen, können diese angepasst werden |
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Doppelseitig polierte Siliziumwafer sind ein hochmodernes Produkt, das die Halbleiterindustrie revolutioniert. Diese Wafer durchlaufen einen intensiven Polierprozess, der sicherstellt, dass sie auf beiden Seiten eine glatte, glänzende und makellose Oberfläche haben.
Die Vorteile der Verwendung doppelseitig polierter Siliziumwafer sind endlos. Erstens bieten sie eine hervorragende elektrische Leistung, was sie ideal für den Einsatz in Hochleistungselektronik wie Mikroprozessoren und Speichergeräten macht. Zweitens ermöglicht ihre hochwertige Oberfläche eine genauere und präzisere Strukturierung der Halbleiterschichten. Dies wiederum führt zu einer höheren Ausbeute und Effizienz im Produktionsprozess.
Darüber hinaus verleiht das beidseitige Polieren den Wafern eine höhere mechanische Festigkeit und Haltbarkeit, so dass sie den Belastungen des Herstellungsprozesses ohne Schäden standhalten können. Dies wiederum führt zu weniger Ausfallzeiten und weniger Verlusten durch Waferbruch.
Zusammenfassend lässt sich sagen: Wenn Sie Ihre Halbleiterherstellung auf die nächste Stufe heben möchten, dann ist die Verwendung von doppelseitig polierten Siliziumwafern der richtige Weg. Die Vorteile sind zahlreich und die Qualität und Zuverlässigkeit dieser Wafer sind unübertroffen. Warum also nicht diese Spitzentechnologie nutzen und Ihre Produktionskapazitäten noch heute steigern?
Produktbild

Warum uns wählen
Unsere Produkte beziehen wir ausschließlich von den fünf weltweit führenden Herstellern und führenden inländischen Fabriken. Unterstützt durch hochqualifizierte nationale und internationale technische Teams und strenge Qualitätskontrollmaßnahmen.
Unser Ziel ist es, den Kunden eine umfassende individuelle Betreuung zu bieten und reibungslose Kommunikationskanäle zu gewährleisten, die professionell, zeitnah und effizient sind. Wir bieten eine geringe Mindestbestellmenge und garantieren eine schnelle Lieferung innerhalb von 24 Stunden.
Fabrikschau
Unser umfangreicher Lagerbestand besteht aus 1000+ Produkten, sodass Kunden Bestellungen bereits ab einem Stück aufgeben können. Unsere eigenen Geräte zum Würfeln und Hinterschleifen sowie die umfassende Zusammenarbeit in der globalen Industriekette ermöglichen uns einen pünktlichen Versand, um die Zufriedenheit und den Komfort unserer Kunden aus einer Hand zu gewährleisten.



Unser Zertifikat
Unser Unternehmen ist stolz auf die verschiedenen Zertifizierungen, die wir erhalten haben, darunter unser Patentzertifikat, das ISO9001-Zertifikat und das National High-Tech Enterprise-Zertifikat. Diese Zertifizierungen stehen für unser Engagement für Innovation, Qualitätsmanagement und unser Engagement für Spitzenleistungen.
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